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dc.contributor.authorKhaoua, Rania-
dc.contributor.authorZatout, Amel-
dc.date.accessioned2022-06-01T15:16:11Z-
dc.date.available2022-06-01T15:16:11Z-
dc.date.issued2020-
dc.identifier.urihttp://dspace.univ-ouargla.dz/jspui/handle/123456789/29314-
dc.descriptionGénie des procédésen_US
dc.description.abstractThis thesis work concerned the development and characterization of ZnS thin films by the sping coating method for applications in photo catalysis of organic pollutants We describe the experimental conditions and explain the deposition system used for the manufacture of ZnS layers by spin coating. The spin-coating process described by four steps. First, excess soil is deposited on the stationary substrate. Then the substrate is rotated and the liquid spreads. The excess liquid deposited is ejected by centrifugal force and the thickness of the deposit is a function of the speed of rotation of the substrate and the time of the deposit. The objective of the work was the deposition of thin semiconductor films on glass substrates by the Spin-Coating technique to improve the quality and properties of thin films. In this manuscript, we have exposed all the steps followed in the production of thin films based on ZnS. We believe that the spin-coating method gives fairly good results. We believe that the spin-coating method works fairly well.en_US
dc.description.abstractCe travail de thèse a concerné l’élaboration et la caractérisation des couches minces ZnS par la méthode sping coating pour des applicationsen photo catalyse des polluants organiques Nous décrivons les conditions expérimentales.et expliqué système de dépôt utilisé pour la fabrication des couches de ZnS par spin coating. Le procédé de spin-coating décrit par quatre étapes. Tout d’abord, un excès de sol est déposé sur le substrat immobile. Puis le substrat est mis en rotation et le liquide s’étale .L’excès de liquide déposé est éjecté par la force centrifuge et l’épaisseur du dépôt est en fonction de la vitesse de rotation du substrat et du temps du dépôt. Le travail avait pour objectif la déposition des couches minces semi-conductrices sur des substrats de verre par la technique de Spin-Coating pour améliorer la qualité et les propriétés des couches minces. Dans ce manuscrit, nous avons exposé toutes les étapes suivies dans la réalisation des couches minces à base de ZnS.Nous estimons que la méthode spin-coating donne d’assez bNous estimons que la méthode spin-coating donne d’assez bons résultats.-
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversité KASDI-MERBAH Ouarglaen_US
dc.subjectZnsen_US
dc.subjectThin Filmen_US
dc.subjectSpin coatingen_US
dc.subjectphotocatalysten_US
dc.titleElaboration des couches minces zns par la méthode spin coating pour application en photocatalyse des polluants organiquesen_US
dc.typeThesisen_US
Appears in Collections:Département de Génie des procédés - Master

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