بـمـعـالـجة الـشــروط الـحـديـة والـحـلـول الأولـيـة(ICP) في الـبـلازمـا الـمـقـتـرنـة بالـحـث (SiH4/O2) حـسـاب تــراكـيـز الـجـسـيـمـات الـحـيـاديـة والأيـونـات لــخلـيـط الـغـاز

Abstract

Notre étude s’intéresse au calcul des concentrations de particules neutres et d’ions pour le mélange gazeux 〖SiH〗_4/O_2 utilisé dans le dépôt de couches minces par Plasma à Couplage Inductif (ICP) en traitant les conditions aux limites et les solutions initiales. Nous nous sommes appuyés sur les données du travail de S. Tink et A.Bogaerts (Te, Tgaz, ne). Dans notre travail, nous avons choisi 19 particules neutres, 9 ions et 82 réactions chimiques à l’intérieur du réacteur. Nous avons également élaboré un programme numérique en langage Fortran pour calculer le coefficient de diffusion, le mobilité et les concentrations pour chacune des particules neutres et ions. Notre programme est basé sur le modèle fluide (équation de continuité) la méthode des différences finies et l’algorithme itératif de Gauss-Seidel. Nous avons obtenu les différentes concentrations des molécules ; elles sont en bon accord avec les résultats de S. Tinck and A. Bogaerts.

Our study is based on calculating the concentrations of neutral particles and ions for the 〖SiH〗_4/O_2 gas mixture used in the deposition of thin layers by Inductively Coupled Plasma (ICP) by treating the boundary conditions and initial solutions. We relied on data on S.Tink and A.Bogaerts work for each of (Te, Tgaz, ne). In our work, we chosed 19 neutral particles, 9 ions and 82 chemical reactions inside the reactor. We also elaborated a numerical program in Fortran language to calculate the diffusion coefficient, kinetic coefficient, and concentrations for each of the neutral particles and ions. Our program is based on the fluid model (continuity equation) finite difference method and Gauss-Seidel iterative algorithm. We obtained different concentrations of particles which correspond with the results of S. Tinck and A. Bogaerts.