RFالخصائص الكهربائية لبلازما متعددة المركبات الأيونية بطريقة الرش المهبطي بمصدر

Abstract

يهتم عملنا هذا بتحديد الخصائص الكهربائية (الكثافة الإلكترونية–الكثافة الأيونية الموجبة والسالبة-الحقل الكهربائي–الكمون الكهربائي) لبلازما متعددة المركبات الأيونية للأرغونAr و الأكسجينO2 المستعملة لتوضع طبقات السيليسيوم Si، بالإعتماد على طريقة الرش المهبطي المغدي بمصدر جهد متناوب لتردد مذياعيRF ذو توترMHz 13,5 .إستعملنا لحل هذه المسألة نموذج الموائع لنظام مستقر و لبعد واحد. يعتمد نموذجنا على معادلة الاستمرارية، معادلة كمية الحركة، معادلة الطاقة و بواسن. للحل العددي لهذه المعادلات التفاضلية إعتمدنا على طريقة الفروق المنتهية و برمجة الحل بطريقة التكرارية غوص-صيدل لحساب الكثافة الأيونية الموجبة و السالبة. أما لحساب الحقل الكهربائي والكثافة الإلكترونية فاستعملنا الطريقة المباشرة. النتائج التي تحصلنا عليها أبدت توافقا مع نتائج أعمال أخرى، أما عن تأثير الخصائص الماكروسكوبية فتبين لنا أن لهم دور كبير في تغيير خصائص الكهربائية لبلازما .

In this work, we are interested on caracterisation of argon and oxygene plasma used in deposition of thin silicon films. The deposition will be on a sputtering process with a radio frequence of 13.5MHz. We use a fluid model for a stationary system. The fluid model is based on the electrical charge continuity equation, quantity movement equation, energy and Poisson equation. For numerical résolution of differential equations, where we have adopted Finite Differences Method. To calculate the ion density positive and negtive we use Gauss-Seidel iterative method; the electrice field and electron density is deduced with direct method. The results of the electronic density of ion density are in good agreement with results of other studies. We present also a calculation for several values of macroscopic properties