ETUDE DES SPECTRES D’EMISSION D’IONS D’HELIUM LORS DE DEPOSITION SUR COUCHES MINCES

Abstract

Dans le cadre de la caractérisation d’un plasma de décharge, nous avons réalisé une étude numérique sur des spectres expérimentaux émis par le plasma lors de déposition sur couches minces de silicium. L’objectif recherché est la détermination de la température électronique et de la densité électronique d’un plasma de décharge provoquée dans l’hélium pur avec une pression de 0.1 mb, une puissance RF (100-400W) et pour des positions (x = 0, x = 3 et x = 5 cm). Les profils de raies et la connaissance de l’état d’équilibre thermodynamique du milieu sont nécessaires pour réaliser nos études. Nous nous sommes basés sur des bases des données de physique atomique des différents éléments du milieu (HeI, HeII, SiI, SiII…), et de modèle théorique et numérique pour calculer les différentes causes d’élargissements (naturel, Doppler, Stark et expérimental). Les résultats trouvés montrent que le plasma est hors équilibre thermodynamique local et la température électronique est proche de celles estimées par d’autres auteurs [1].