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dc.contributor.authorZakia BALLAH et Fethi KHELFAOUI-
dc.date.accessioned2013-12-22T12:03:23Z-
dc.date.available2013-12-22T12:03:23Z-
dc.date.issued2013-12-22-
dc.identifier.issnsam.-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/3766-
dc.descriptionSIPP 2011 UKM Ouargla 13 - 15 February/Février 2011en_US
dc.description.abstractPour étudier les paramètres électriques d’un plasma d'argon utilisé pour la déposition des couches minces de silicium dans un pulvérisateur cathodique magnétron alimenté par une source de tension radiofréquence de fréquence 13.56 MHz, nous appliquons le modèle fluide d'un système stationnaire à deux dimensions. Les propriétés électriques calculées sont la densité électronique, la densité ionique, le champ électrique et le potentiel électrique.en_US
dc.language.isofren_US
dc.subjectplasmaen_US
dc.subjectmodèle fluide-
dc.subjectpropriétés électriques-
dc.subjectpulvérisation cathodique magnétron-
dc.titleETUDE DE LA MODELISATION A DEUX DIMENSIONS D’UN PLASMA DANS UN PULVERISATEUR CATHODIQUE MAGNETRONen_US
dc.typeArticleen_US
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