Calcul de la fonction de distribution du microchamp électrique d'un plasma soumis sous un champ magnétique extérieur

Abstract

Le plasma est un milieu très intéressant à étudier. Le diagnostic des caractéristiques de ce milieu nécessite l’étude des profils des raies spectrales émis par ce milieu. Le calcul et l’étude des profils de raie sont des moyens importants, et dans ce cas le calcul de la fonction de distribution du microchamp dans les plasmas est demandé. Le champ magnétique influe sur les niveaux d’énergie d’un émetteur (atome, ion…etc), et donc influe directement sur le profil. Un plasma soumis sous un champ magnétique est influencé strictement par ce champ, par conséquent la fonction de distribution du microchamp électrique dans un plasma soumis sous un champ magnétique extérieur est liée à ce champ. Dans notre travail nous avons calculé, pour la première fois, la fonction de la distribution du microchamp électrique dans un plasma soumis sous un champ magnétique extérieur, on négligeant l’interaction entre les ions par l’utilisation de l’approximation de Holtsmark. Le résultat de la fonction de distribution du microchamp obtenue montre que le champ magnétique B influe sur la relation de cette fonction.