دراسة الخصائص الضوئية للأغشية الرقيقة لأكسيد النيكل(NiO)المطعم بأيونات الليثيوم

Abstract

قمنا خلال عملنا هذا بترسيب أغشية أكسيد النيكل المطعم وغير المطعم بالليثيوم بنسبة وزنية (5%) بتقنية رذاذ الإنحلال الحراري على ركائز زجاجية وتحت درجة حرارة 480ºC، كما أستخدمنا نترات النيكل (Ni (NO3)2.6H2O) وكلوريد الليثيوم (LiCl2) كمصدر لأيونات النيكل والليثيوم على الترتيب. حيث تمت معاينة الخواص الضوئية للأغشية الرقيقة بإستخدام جهاز التحليل الطيفي للأشعة فوق البنفسجية-المرئية (UV-Visible Spectrophotomètre)، حيث أظهرت النتائج المتحصل عليها شفافية عالية للأغشية الرقيقة لأكسيد النيكل المطعم على عكس الغير مطعم 51.47%، 58.52% على الترتيب. في حين إنخفضت قيمة فجوة الطاقة الممنوعة Eg من 3.84eV إلى 3.68eV ويفسر هذا الإنخفاض بظهور مستويات طاقية جديدة داخل الفجوة تحديدا أسفل حزمة النقل نتيجة التطعيم بأيونات الليثيوم.

Doped (NiO: 5%Li) and no doped Nickel oxide (NiO) thin films has been deposited on a glass substrate at a temperature of 480˚C using spray pyrolysis technique. Nickel nitrate salt solution (Ni (NO3)2∙6H2O) and chloride lithium (LiCl2). The optical properties of NiO films were investigated using visible spectrum, The measurements of optical properties show a high transmittance (T) for doped (NiO: 5%Li) than no doped (NiO) thin films 58.52% and 51.47%, respectively. The energy gap decreases from 3.84 to 3.68 eV with increasing of dopage due to defects or vacancies in the NiO crystal which can create new energy level, this behavior leads to the reduction in the band gap energy