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dc.contributor.advisorDouis, Saïd-
dc.contributor.advisorMohammed, Tayeb Meftah-
dc.contributor.authorKhalfallah, BENBELGACEM-
dc.date.accessioned2022-01-13T09:28:32Z-
dc.date.available2022-01-13T09:28:32Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.urihttp://dspace.univ-ouargla.dz/jspui/handle/123456789/27200-
dc.descriptionPhysique de matériauxen_US
dc.description.abstractDans ce travail, notre objectif a était de souligner l'importance du calcul et de l'évaluation de l'opérateur de collision électronique dans le plasma, en réalisant une étude comparative entre trois modèles différents (Nguyen, Griem, Spiros). Où, au cours de cette étude, nous avons réussi à calculer le potentiel électrique effectif dans le cas du plasma à deux composants (TCP), en résolvant un système d'équations intégrales non linéaires décrivant le potentiel effectif dans le cas du plasma à deux composants, par deux méthodes différentes; la méthode de point fixe MPF et la méthode de Runge Kutta MRK, qui a donné des résultats étonnants par rapport à la simulation de la dynamique moléculaire, pour les propriétés statistiques de la distribution du micro-champ électrique, fonctions de autocorrélation, et les valeurs propres de l'opérateur de collision électronique et son effet dans le plasma,en_US
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversité Kasdi Merbah Ouarglaen_US
dc.subjectPotentiel effectifen_US
dc.subjectMicro-champ électriqueen_US
dc.subjectDistribution de micro-champsen_US
dc.subjectPlasma à deux composantsen_US
dc.subjectFonction d'auto-corrélationen_US
dc.subjectOpérateur de collision électroniqueen_US
dc.titleÉtude comparative entre différents modèles de l’opérateur de collision électronique dans un plasma (TCP)en_US
dc.typeThesisen_US
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