Simulation par la méthode de Monte Carlo des collisions des particules dans un pulvérisateur cathodique en régime DC

Abstract

من اجل توضع الطبقات الرقيقة بطريقة PVD. اقترحنا نموذج محاكاة لمونتي كارلو للتصادمات الثنائية للجزيئاتأثناء عملية الرش المهبطي بنظام DC . باستعمال لغة الفورترون و اختيار كمون موليير لتفاعل بلازما – سطح ’ قمنا بحساب توزيع السرعات بتأثير التصادم قبل وصول الايونات الى السطح و عند الهدف و توزيع السرعات لذرات السيليسيوم المقتلعة واحصاء الايونات الممتصة والمنعكسة و احصاء مردود الرش. كما قمنا بدراسة تأثير مختلف عوامل (الكمون الكهربائي – معامل تبادل الطاقة – شكل الكمون الكهربائي) على دوال التوزيع و المقادير الاحصائية.

For the study of the deposition of thin films by PVD process, we proposed the Monte Carlo simulation of binary collisions between particles in a sputter in DC regime. Using the FORTRAN language and using the Molière potential for plasma surface- interaction, we calculated several statistical quantities. Distributions calculated speeds are those of the argon ions near the surface and at the surface as well as the ejected silicon atoms. Statistics on spray performance is calculated. The influence of various parameters (applied electrical potential, energy coefficient transferred shape of the electric potential, etc ...) on different distributions and statistical quantities is studied