Mise au point et étalonnage d'un appareil de pulvérisation cathodique

Abstract

Dans ce travail nous examinons en détail le principe et les applications drun appareil de pulvérisation cathodique que lrUniversité Kasdi Merbah - Ouargla r récemment acquis dans le but de préparer des échantillons de laboratoire (métalliques ou isolants) en couches minces. Le principe de cette technique consiste à extraire des atomes de la surface d'une matière cible par bombardement par des particules énergétiques d'un plasma (ordinairement d'un gaz d'argon formé par Ar, Ar*, e-) et à les déposer sur un substrat pour former des films minces. Dans ce mémoire, nous décrivons les réglages, les calibrations et les optimisations effectuées sur I'appareil concernant les conditions du dépôt, le vide, la pression du gaz,,la puissance délivrée, la distance anode-cathode afin d'obtenir les meilleurs rendements possibles.