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https://dspace.univ-ouargla.dz/jspui/handle/123456789/1500
Title: | Etude de propriétés thermiques en phase gazeuse lors de la déposition dans les procédés LCVD |
Authors: | KHELFAOUI Fethi BARIR, Rafia |
Keywords: | couche mince procédé CVD LCVD équation de la chaleur méthodes des différences finies Deposition thin film CVD LCVD heat equation finite difference methods chemical reaction heat التوضع طبقة رقيقة توضع LCVD طرق التفاضل المتناهي التفاعلات الكيميائية الحرارية |
Issue Date: | 2013 |
Publisher: | UNIVERSITE KASDI MERBAH OUARGLA |
Abstract: | Afin d’étudier la propriété thermique dans les procédés LCVD L’exemple
d’application correspond à la déposition de composés de titane, de silicium, de
carbone, ou autre. La déposition d’une couche mince par les matériaux à procédé par
des LCVD, nous nous proposés un modèle pour le calcul des profils des diffusions
des températures des milieux (à la surface de substrat) augment à l’état de gaz par la
conduction en surface et par convection dans les gaz. Nous avons résolu l’équation
du chaleur par le méthode différence finis et utilise l’algorithme de Gus-Seidel .Les
températures sont proches résultats expérimentaux To study the thermal property in processes LCVD the sample application is the deposition of titanium compounds, silicon, carbon, or other. The deposition of a thin layer materials in process by LCVD, we proposed a model for the calculation of the profiles broadcasts temperatures environments (to the substrate surface) to augment the state of the gas conduction convection surface and in the gas. We solved the equation of heat by the finite difference method and use the Gus-Seidel algorithm. Temperatures are close experimental results |
Description: | Rayonnement et Spectroscopie et Optoélectronique |
URI: | http://hdl.handle.net/123456789/1500 |
Appears in Collections: | département de physique - Master |
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