تطبيق تدقيق ريتفيلد (Rietveld) على مخطط انعراج الأشعة السينية لمسحوق (بآثار السيليكا) عند زوايا صغيرة

Abstract

من المعروف أن انعراج الأشعة السينية عبر المواد الزجاجية يأخذ شكل الهالة العريضة، على عكس المواد البلورية التي تأخذ نمط القمم المتباينة، فمن خلال دراسة الانعراج عند زوايا صغيرة (SAXS) للمواد الامورفية يمكننا جمع الكثير من المعلومات المهمة عن بنيتها. زاد الاهتمام حاليا بهذه التقنية نظرا للتوجه الحديث في علم النانو و تطوره، حيث تعتبر أداة و تقنية مهمة للبحث و تقصي حول البنى النانوية. من هذا المنطلق حاولنا في موضوعنا هذا دراسة الخواص البنيوية لمخطط تجريبي لانعراج الأشعة السينية لعينية ( بآثار السيليكا ) باستغلال طريقة ريتفيلد للتدقيق في انعراج الأشعة السينية للمساحيق عند قيم صغيرة لزوايا الانعراج .

Il est connu que la diffraction des rayons X à travers les matériaux verriers prend la forme d'un large halo, contrairement aux matériaux cristallins qui prennent le motif de pics distinctifs, en étudiant la diffraction aux petits angles (SAXS) pour les matériaux amorphes/verre, nous pouvons recueillir beaucoup d'informations importantes sur leur structure et leurs propriétés physiques. L'intérêt pour cette technologie a augmenté de nos jours étant donné la tendance récente de la nanoscience et de son développement, et considérée comme une technique importante dans la recherche et l'étude des nanostructures. De ce point de vue, nous avons essayé dans ce travail d'étudier les propriétés structurales d'un échantillon de motif expérimental ( effets de la silice) en exploitant la diffraction des rayons X