OPTIQUE DE MISE EN FORME D’UN FAISCEAU LASER Nd:YAG POUR L’ÉCRITURE DIRECTE

Abstract

La photolithographie joue un rôle central dans la micro fabrication des circuits photoniques intégrés (C P I), qui consiste à transférer le motif d’un masque sur un substrat spécifique. Le masque est généralement un substrat en verre sur lequel des motifs micrométriques au chrome sont gravés à l’aide d’un faisceau d’électrons ou d’une source laser. Ce travail constitue la première étape pour la réalisation d’un système à écriture directe par ablation laser en vue de la réalisation de masques. Ce système est constitué d’un laser Nd:YAG de Quantel (model : YG980E), d’un système optique de mise en forme du faisceau, d’une table unidimensionnelle et d’un système électronique de commande-contrôle. Les performances du système optique obtenues ont permis de réaliser de la micro-gravure sur des couches métalliques déposées sur des substrats en verre. La microscopie optique a été utilisée pour caractériser les différentes structures gravées. Des traits de l’ordre de quelques micromètres ont été observés