Synthèse de matériaux nano-composites par voie solaire et leurs applications dans l'environnement

Abstract

Résumé. Nous avons fabriqué des films minces de (NiO)x-1(ZnO)x, et (Co3O4)x- 1(ZnO)x, sur des substrats de verre à différentes fractions volumiques en ZnO, x=(0%, 5% et 10%), et des films minces de Co3O4 à différentes températures d’élaboration (300°C, 350°C et 400 ° C), en utilisant la technique de dépôt spray pyrolyse à l’aide d’un concentrateur. Les observations de diffraction des rayons X ont révélé que les plans dominants, sont le plan (200) pour NiO, et le plan (310) pour Co3O4. Les tailles des grains variées, entre (18,15nm et 20.20nm) pour NiO, et entre (34,64nm et 49.19nm) pour Co3O4. Les valeurs de gaps optiques variées, entre (3,197ev et 3,319ev) pour NiO, et entre (2,116 ev et 2.460ev) pour Co3O4. Les valeurs de conductivités électriques variées, entre (23.37x10-2 (Ω.cm) -1 et 36 (Ω.cm) -1) pour l’oxyde de nickel, et entre (3.17x10-2 (Ω.cm) -1 et 12.21 (Ω.cm) -1) pour l’oxyde de cobalt. Finalement, les films élaborés ont été présenté des valeurs de résistivités électriques variées, entre (23.37x10-2 (Ω.cm) -1 et 36 (Ω.cm) -1) pour l’oxyde de nickel, et entre (3.17x10-2 (Ω.cm) -1 et 12.21 (Ω.cm) -1) pour l’oxyde de cobalt. Abstract. We fabricated thin films of (NiO)x-1(ZnO)x, and (Co3O4)x-1(ZnO)x, on glass substrates at different ZnO volume fractions, x=(0%, 5% and 10%), and thin films of Co3O4 at different production temperatures (300°C, 350°C and 400°C), using the pyrolysis spray deposition technique using a concentrator. X- ray diffraction observations revealed that the dominant planes are the (200) plane for NiO, and the (310) plane for Co3O4. The grain sizes varied, between (18.15nm and 20.20nm) for NiO, and between (34.64nm and 49.19nm) for Co3O4. The values of optical gaps varied, between (3.197ev and 3.319ev) for NiO, and between (2.116 ev and 2.460ev) for Co3O4. The electrical conductivity values varied, between (23.37x10-2 (Ω.cm) -1 and 36 (Ω.cm) -1) for nickel oxide, and between (3.17x10-2 (Ω.cm) - 1 and 12.21 (Ω.cm) -1) for cobalt oxide. Finally, the films produced were presented with varied electrical resistivity values, between (23.37x10-2 (Ω.cm) -1 and 36 (Ω.cm) -1) for nickel oxide, and between (3.17x10 -2 (Ω.cm) -1 and 12.21 (Ω.cm) -1) for cobalt oxide.